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光电轮廓仪

 纳米科技是21世纪材料技术革命的核心，而纳米测量是纳米技术中重要环节，我校研制的光电轮廓仪是纳米测量的重要仪器之一。该仪器除在计量系统作为传递基准仪外，也可广泛用于材料科学、生物学、化学、微机械学以及半导体工业等领域中的纳米分析测量。
   仪器主要技术指标为：
   测量方法 非接触式、三维、光学相移干涉法
   物镜倍率 40X
   测量范围 0.1×0.1mm
   测量列阵 510×510象素
   最小显示值 0.1nm
   测量表面粗糙度范围 Ra～0.1nm-120nm
   最大可测量台阶和孔深 1100nm
   仪器Ra测量重复性 σRa≤1nm
 


文章分类： 光机电一体化（院士）
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