低温等离子体清洗技术与设备

表面超清洗的理想技术和工具，是一种小型化、非破坏性、干式、环保型的超清洗设备。等离子体清洗器采用气态介质作为清洗剂，有效地避免了液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染和水资源的消耗。短时间的清洗即可有效去除有机污染物，还可改变材料表面性能。
可应用于清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片、光学镜片、电子显微镜片等。去除光学元件、半导体元件、印刷线路板、晶体、宝石等元器件表面的光阻物质和污垢。清洗生物芯片、微流控芯片。
成果应用领域或实例：广泛用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、微观流体学等领域。
成果产业化项目总投资、主要建设内容及规模：成果产业化项目总投资：100万元
主要建设内容及规模：建产品生产车间，规模灵活。形成等离子体清洗系列产品。

单位名称：福建省科技咨询服务中心

上一篇低温等离子体灭菌消毒技术与设备

下一篇含氧煤层气的分离与液化技术

文章分类：机械制造（院士）

分享到：